半導体
招聘研究員　山口真史

掲載年度	2019
種類	国内
学会名	第16回次世代の太陽光発電システムシンポジウム
発表題目	Si(111)微傾斜基板上2D-In2Se3成膜に基板オフ方向が与える影響
発表者	川勝 桂 ワン　ユ チェン 小島信晃 大下祥雄 山口真史
主催団体	日本学術振興会産学協力研究委員会第175委員会
発表場所	宮崎市民プラザ 宮崎県宮崎市
発表日	2019/07/04
講演内容