学会発表

電子デバイス
教授 岩田直高

掲載年度 2016
種類 国内
学会名 第64回応用物理学会春季学術講演会
発表題目 HCl表面処理とプラズマ励起原子層堆積 SiNx膜による AlGaN/GaN HEMTの表面安定化
発表者 鈴木貴之
土屋晃祐
大保崇博
赤澤良彦
下野貴史
松本滉太
江口卓也
岩田直高
主催団体 応用物理学会
発表場所 パシフィコ横浜
発表日 2017/03/16
講演内容