著書

半導体
招聘研究員　山口真史

RecordID：2004182

掲載年度 2004
種類 国内
書名 表面科学の基礎と応用　新訂版・日本表面科学会創立25周年記念
著者 山口真史
編集者
監修者
編集
監修		 日本表面科学会「新訂版・表面科学の基礎と応用」編集委員会（編集者代表：岩澤康裕）
出版 出版者：エヌ・ティー・エス
ISBN/ISSN 9784860430511
巻（vol.）　号（No.）　頁（pp.）
出版年月日 2004年06月22日
執筆担当箇所

第3編応用編　第1章半導体材料の設計・作製および評価　第3節シリコンプロセスにおける薄膜・界面形成プロセスと評価　1.太陽電池,pp.932-934

共著者 共著