著書

半導体
招聘研究員 山口真史

RecordID:2004182

掲載年度 2004
種類 国内
書名 表面科学の基礎と応用 新訂版・日本表面科学会創立25周年記念
著者 山口真史
編集者
監修者
編集
監修
日本表面科学会「新訂版・表面科学の基礎と応用」編集委員会(編集者代表:岩澤康裕)
出版 出版者:エヌ・ティー・エス
ISBN/ISSN 9784860430511
巻(vol.) 号(No.) 頁(pp.)
出版年月日 2004年06月22日
執筆担当箇所

第3編応用編 第1章半導体材料の設計・作製および評価 第3節シリコンプロセスにおける薄膜・界面形成プロセスと評価 1.太陽電池,pp.932-934

共著者 共著