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PD研究員 ハン ガン(HAN Gang / ハン ガン)

業績

年度 学会名 発表者 発表題目 発表日
2021 ISPlasma2022 ハン ガン  Deposition of PFCs Films on Die with Microstructures using CF4 Gas 2022年03月07日
2021 第38回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム ハン ガン  シリコンハードマスクを用いたステンレス鋼のドライエッチング 2021年11月09日

プロフィール

学位 博士(工学)  
生年月日 年齢 34歳
所属研究室 マイクロメカトロニクス研究室
研究分野
URL
最終学歴
職歴
主な研究論文 ・G. Han, Y. Murata, Y. Minami, M. Sohgawa, T. Abe, Thermal Reactive Ion Etching of Minor Metals with SF6 Plasma. Sensor Mater, 217 (2017).
・G. Han, Y. Murata, D. Ohkawa, M. Sohgawa, T. Abe, Deep Reactive Ion Etching Technique Involving Use of 3D Self-Heated Cathode. 2017 19th Int Conf Solid-state Sensors Actuators Microsystems Transducers, 1281–1284 (2017).
・Han, G. & Sasaki, M. Microtextured die using silicon stencil mask for micro-machining of stainless steel. Jpn J Appl Phys 61, SA1012 (2022).
学会活動
社会活動(研究に関する学会活動以外)  
学内運営(委員会活動等)  
担当授業科目 学部: 
修士: 
教育実践上の主な業績  
その他

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