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界面制御プロセス
准教授 栁瀬明久

掲載年度

2021

個別研究テーマ
(日本語)

Ge薄膜の微小球化に与える表面凹凸構造の効果

個別研究テーマ
(英語)

Effects of surface roughness of Ge thin patches on the laser-heating-induced transformation into microspheres

研究者 栁瀬明久
研究概要

パルスレーザー加熱によるパッチ状Ge薄膜の粒子化プロセスにおいて、Ge薄膜の表面凹凸構造の効果として、(1)レーザーの実効的な反射率を下げ単位面積あたりの吸収エネルギーを大きくする効果、(2)薄膜の表面積が大きくなり、1個の薄膜の表面・界面自由エネルギーが大きくなることによって変形の駆動力が大きくなる効果などが挙げられる。今回、Si(100)基板に対して湿式エッチングによる微細な凹凸構造の作製を試みた。そして、銀を用いた金属アシストエッチングと低濃度アルカリ水溶液を用いたエッチングを組み合わせた方法によって、基板表面に数百nmスケールのピラミッド構造が高密度に得られた。この表面を熱酸化した基板を用いてパルスレーザー加熱によるGe薄膜の粒子化実験を実施した。しかし、Ge薄膜から微細な粒子が多数生成した。

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