原著論文

半導体
招聘研究員 林 豊

RecordID:2017157

掲載年度 2019
題目 Effects of damages induced by indium-tin-oxide reactive plasma deposition on minority carrier lifetime in silicon crystal
発表区分 原著論文
著者 Takefumi Kamioka*, Yuki Isogai
Yutaka Hayashi
Yoshio Ohshita
Atsushi Ogura*
掲載誌 出版者 The American Institute of Physics (AIP)
掲載誌名 AIP Advances
ISBN/ISSN
巻(vol.)9 号(No.)10 頁(pp.)105219
発行年月日 2019/10/23