個別研究テーマ編集

界面制御プロセス
准教授 栁瀬明久

掲載年度

2019

個別研究テーマ
(日本語)

シリカと高分子材料からなる複合表面の作製とGe薄膜の微小球化への応用

個別研究テーマ
(英語)

Fabrication of patterned surfaces composed of silica and polymer material as a substrate to prepare Ge microspheres of thin Ge patches

研究者 栁瀬明久
研究概要

パッチ状Ge薄膜の一部がシリカ上に、残りの部分がシクロオレフィンポリマー樹脂(COP)上に配置した構造を作製し、そのGe薄膜のパルスレーザー加熱時の変形挙動を調べた。COPに比べてシリカはGeとの相互作用が大きいと考えられ、複合表面上でGe薄膜を溶融した場合、GeはCOP上からシリカ上へ方向性をもって流動する可能性がある。この方針で1個のGeパッチから1個のGe球状粒子が作製可能か明らかにする目的で研究を行った。試料は以下のように作製した。まず基板上にリフトオフ用フォトレジストパターンを作製し、つぎにシリカ薄膜をスパッタリング法で堆積した。さらに、ポリビニルアルコール(PVA)を成膜後、PVA表面をフッ素樹脂コーティング剤によって改質した。レジストパターンを除去し、PVA/シリカ薄膜パターンを得た。続いて、シクロオレフィンポリマー(COP)を成膜し、PVA薄膜を除去することによって、シリカとCOPからなる複合表面を得た。このパターンと位置合わせをしたうえでリフトオフ法によってGe薄膜パターンを作製した。この試料にパルスレーザーを照射したが、1つのパッチから複数のGe微粒子が生じてしまい、1個のGeパッチを1個のGe球状粒子に変形することはできなかった。

close

ページのトップへ戻る